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Chemical Vapor Deposition Of Tungsten And Tungsten Silicides For Vlsi/Ulsi Applications (Cód: 2105388)

Schmitz, John E. J.

William Andrew

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Chemical Vapor Deposition Of Tungsten And Tungsten Silicides For Vlsi/Ulsi Applications

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Descrição

This monograph condenses the relevant and pertinent literature on blanket and selective CVD of tungsten (W) into a single manageable volume. The book supplies the reader with the necessary background to bring up, fine tune, and successfully maintain a CVD-W process in a production set-up. Materials deposition chemistry, equipment, process technology, developments, and applications are described.

Características

Produto sob encomenda Sim
Marca William Andrew
Cód. Barras 9780815512882
Altura 22.90 cm
I.S.B.N. 9780815512882
Profundidade 1.56 cm
Referência 0001958271
Ano da edição 1991/11/01
Idioma Inglês
Número de Páginas 235
Peso 0.47 Kg
Largura 15.20 cm
AutorSchmitz, John E. J.

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