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Handbook Of Chemical Vapor Deposition (Cód: 2105396)

Pierson, Hugh O.

William Andrew

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Descrição

Turn to this new second edition for an understanding of the latest advances in the chemical vapor deposition (CVD) process. CVD technology has recently grown at a rapid rate, and the number and scope of its applications and their impact on the market have increased considerably. The market is now estimated to be at least double that of a mere seven years ago when the first edition of this book was published. The second edition is an update with a considerably expanded and revised scope. Plasma CVD and metallo-organic CVD are two major factors in this rapid growth. Readers will find the latest data on both processes in this volume. Likewise, the book explains the growing importance of CVD in production of semiconductor and related applications.

Características

Produto sob encomenda Sim
Marca William Andrew
Cód. Barras 9780815514329
Altura 22.90 cm
I.S.B.N. 9780815514329
Profundidade 3.15 cm
Referência 0003303351
Detalhe 2 SUB
Ano da edição 1999/10/01
Idioma Inglês
Peso 0.97 Kg
Largura 15.20 cm
AutorPierson, Hugh O.

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