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Handbook of Silicon Wafer Cleaning Technology, 2nd Edition (Cód: 3053177)

"reinhardt,Karen; Kern, Werner"

William Andrew

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Descrição

The second Edition of the Handbook of Silicon Wafer Cleaning Technology is intended to provide knowledge of wet, plasma, and other surface conditioning techniques used to manufacture integrated circuits. The integration of the clean processes into the device manufacturing flow will be presented with respect to other manufacturing steps such as thermal, implant, etching, and photolithography processes. The Handbook discusses both wet and plasma-based cleaning technologies that are used for removing contamination, particles, residue, and photoresist from wafer surfaces. Both the process and the equipment are covered. A review of the current cleaning technologies is included. Also, advanced cleaning technologies that are under investigation for next generation processing are covered

Características

Peso 0.44 Kg
Produto sob encomenda Sim
Marca William Andrew
I.S.B.N. 9780815515548
Altura 0.00 cm
Largura 0.00 cm
Profundidade 0.00 cm
Número de Páginas 748
Idioma Inglês
Acabamento Capa dura
Cód. Barras 9780815515548
Número da edição 2
Ano da edição 10/1/2008
Autor"reinhardt,Karen; Kern, Werner"