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Plasma Etching (Cód: 3051199)

"manos,Dennis; Flamm, Daniel"

Academic Press

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Descrição

Plasma etching plays an essential role in microelectronic circuit manufacturing. Suitable for researchers, process engineers, and graduate students, this book introduces the basic physics and chemistry of electrical discharges and relates them to plasma etching mechanisms. Throughout the volume the authors offer practical examples of process chemistry, equipment design, and production methods.

Características

Produto sob encomenda Sim
Marca Academic Press
Cód. Barras 9780124693708
Altura 0.00 cm
I.S.B.N. 9780124693708
Profundidade 0.00 cm
Acabamento Capa dura
Sub-Título An Introduction
Número da edição 1
Ano da edição 28/7/1989
Idioma Inglês
Número de Páginas 476
Peso 0.44 Kg
Largura 0.00 cm
Autor"manos,Dennis; Flamm, Daniel"

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