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Plasma Sources For Thin Film Deposition And Etching - Vol. 18 (Cód: 1634023)

Francombe

Academic Press

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Descrição

This latest volume of the well-known Physics of Thin Films Series includes four chapters that discuss high-density plasma sources for materials processing, electron cyclotron resonance and its uses, unbalancedmagnetron sputtering, and particle formation in thin film processing plasma.Key Features* Chapter One develops a unified framework from which all "

Características

Produto sob encomenda Sim
Marca Academic Press
Cód. Barras 9780125330183
Altura 22.90 cm
I.S.B.N. 9780125330183
Profundidade 2.04 cm
Acabamento Capa dura
Ano da edição 18/8/1994
Idioma Inglês
Número de Páginas 328
Peso 0.72 Kg
Largura 15.20 cm
AutorFrancombe

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