Frete Grátis
  • Google Plus

Rapid Thermal Processing (Cód: 3049702)

"slaoui,A.; Theiler, T.; Muller, J.c.; Singh

Elsevier Science

Ooopss! Este produto está temporariamente indisponível.
Mas não se preocupe, nós avisamos quando ele chegar.

Ooops! Este produto não está mais a venda.
Mas não se preocupe, temos uma versão atualizada para você.

Ooopss! Este produto está fora de linha, mas temos outras opções para você.
Veja nossas sugestões abaixo!

R$ 600,50 em até 10x de R$ 60,05 sem juros
Cartão Saraiva R$ 570,48 (-5%) em até 1x no cartão ou em até 12x de R$ 50,04 sem juros

Cartão Saraiva


Rapid Thermal Processing (RTP) is a well established single-wafer technology in USLI semiconductor manufacturing and electrical engineering, as well as in materials science. The biggest advantage of RTP is that it eliminates the long-ramp-up and ramp-down times associated with furnaces, enabling a significant reduction in the thermal budget. Today, RTP is in production use for source/drain implant annealing, contact alloying, formation of refractory nitrides and silicides and thin gate dielectric (oxide) formation. The aim of Symposium I was to provide an overview of the latest information on research and development in the different topics cited above. The potential applications of RTP in new areas like large area devices such as flat planel displays and solar cells has to be investigated. About 30 papers were presented in this symposium. The contributions of most interest involved modelling and control, junctions formation and thermal oxidation, deposition and recrystallisation and silicide formations. However, the range of topics and the intent to focus on underlying, fundamental issues like dopant diffusion in silicon from solid sources, strain relaxation and photonic effects, nucleation as well as applications to magnetic films and solar cells devices.


Produto sob encomenda Sim
Marca Elsevier Science
Cód. Barras 9780080436128
Altura 0.00 cm
I.S.B.N. 9780080436128
Profundidade 0.00 cm
Acabamento Capa dura
Número da edição 1
Ano da edição 17/3/1999
Idioma Inglês
Peso 0.44 Kg
Largura 0.00 cm
Autor"slaoui,A.; Theiler, T.; Muller, J.c.; Singh


Avaliação geral: 0

Você está revisando: Rapid Thermal Processing