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Advances in Research and Development - Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications (Cód: 3028036)

Francombe, Maurice H.; Vossen, John L.

ELSEVIER S&T

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Advances in Research and Development - Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications

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Descrição

Significant progress has occurred during the last few years in device technologies and these are surveyed in this new volume. Included are Si/(Si-Ge) heterojunctions for high-speed integrated circuits, Schottky-barrier arrays in Si and Si-Ge alloys for infrared imaging, III-V quantum-well detector structures operated in the heterodyne mode for high-data-rate communications, and III-V heterostructures and quantum-wells for infrared emissions.

Características

Peso 0.00 Kg
Produto sob encomenda Sim
Marca ELSEVIER S&T
Idioma 337
Acabamento e-book
Territorialidade Internacional
Gratuito Não
Tamanho do Arquivo 37165
Cód. Barras 9780080542904
Ano da edição 12009
Ano da Publicação 97
AutorFrancombe, Maurice H.; Vossen, John L.