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e-book

Rapid Thermal Processing for Future Semiconductor Devices (Cód: 3027834)

Fukuda,H.

ELSEVIER S&T

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Rapid Thermal Processing for Future Semiconductor Devices

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Descrição

This volume is a collection of papers which were presented at the 2001 International Conference on Rapid Thermal Processing (RTP 2001) held at Ise Shima, Mie, on November 14-16, 2001. This symposium is second conference followed the previous successful first International RTP conference held at Hokkaido in 1997. The RTP 2001 covered the latest developments in RTP and other short-time processing continuously aiming to point out the future direction in the Silicon ULSI devices and II-VI, III-V compound semiconductor devices.

This book covers the following areas: advanced MOS gate stack, integration technologies, advancd channel engineering including shallow junction, SiGe, hetero-structure, novel metallization, inter-connect, silicidation, low-k materials, thin dielectrics including gate dielectrics and high-k materials, thin film deposition including SiGe, SOI and SiC, process and device modelling, Laser-assisted crystallization and TFT device fabrication technologies, temperature monitoring and slip-free technologies.

Características

Peso 0.00 Kg
Produto sob encomenda Sim
Marca ELSEVIER S&T
Número de Páginas 160 (aproximado)
Idioma 337
Acabamento e-book
Territorialidade Internacional
Formato Livro Digital Epub
Gratuito Não
Proteção Drm Sim
Tamanho do Arquivo 6589
Início da Venda 02/04/2003
Código do Formato Epub
Cód. Barras 9780080540269
Ano da edição 42003
Ano da Publicação 2003
AutorFukuda,H.