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e-book

Rapid Thermal Processing for Future Semiconductor Devices (Cód: 3027834)

Fukuda,H.

ELSEVIER S&T

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Descrição

This volume is a collection of papers which were presented at the 2001 International Conference on Rapid Thermal Processing (RTP 2001) held at Ise Shima, Mie, on November 14-16, 2001. This symposium is second conference followed the previous successful first International RTP conference held at Hokkaido in 1997. The RTP 2001 covered the latest developments in RTP and other short-time processing continuously aiming to point out the future direction in the Silicon ULSI devices and II-VI, III-V compound semiconductor devices.

This book covers the following areas: advanced MOS gate stack, integration technologies, advancd channel engineering including shallow junction, SiGe, hetero-structure, novel metallization, inter-connect, silicidation, low-k materials, thin dielectrics including gate dielectrics and high-k materials, thin film deposition including SiGe, SOI and SiC, process and device modelling, Laser-assisted crystallization and TFT device fabrication technologies, temperature monitoring and slip-free technologies.

Características

Produto sob encomenda Não
Marca ELSEVIER S&T
Cód. Barras 9780080540269
Acabamento e-book
Início da Venda 02/04/2003
Territorialidade Internacional
Formato Livro Digital Epub
Gratuito Não
Tamanho do Arquivo 6589
Proteção Drm Sim
Ano da edição 42003
Idioma 337
Código do Formato Epub
Número de Páginas 160 (aproximado)
Ano da Publicação 2003
Peso 0.00 Kg
AutorFukuda,H.